尹志尧3nm刻蚀机是真的吗（和“光刻机”同样重要的“刻蚀机”是怎样造出来的）

本文目录

• 和“光刻机”同样重要的“刻蚀机”是怎样造出来的
• 中微为何这么强3nm刻蚀机助力国产芯，意义力压IBM首个2nm芯片
• 60岁博士尹志尧弃美回国，破冰芯片关键技术，打破美方技术垄断

和“光刻机”同样重要的“刻蚀机”是怎样造出来的

光刻机和刻蚀机的区别：

刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。

“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。

1944年，尹志尧出生在北京的一个爱国家庭，他的祖父是公费留学生，父亲也曾留学日本然后又回到祖国，为国家做贡献。

1962年尹志尧顺利考入中国科学技术大学化学物理系，1968年顺利毕业后，他先后分配到兰州炼油厂和中科院兰州物理化学所工作，1978年，尹志尧再接再厉又进入到北京大学化学系攻读硕士学位，1980年他又前往美国加利福尼亚大学洛杉矶分校，继续深造在获得物理化学博士学位。

之后尹志尧在硅谷工作了20年在此期间先进入到英特尔公司，1986年尹志尧受邀加入到L5M，主要负责等离子体刻蚀设备的研发，1991年应用材料公司请他担任等离子刻蚀总部的工程及技术主管。为了避免知识产权方面的问题，他带领团队从头开始，仅用了九年时间，就让应用材料公司占据国际刻蚀机设备市场的40%

尹志尧在半导体行业，有86项美国专利，和200多项各国专利，并被公认为是硅谷最有成就的华人之一。

然而就在60岁退休之际，尹志尧做出了一个大胆的决定，他带着自己的15人团队回到了中国，2004年，他创办了中微半导体公司，让中国突破了刻蚀机的技术垄断奠定了我国自主生产芯片的技术，如今，中微半导体公司生产的刻蚀机在米粒上刻一亿个字到十亿个字的突破，而尹志尧对祖国的贡献还在继续。

中微为何这么强3nm刻蚀机助力国产芯，意义力压IBM首个2nm芯片

芯片已经成了近来的热点，并且不断向更小的制程迈进。 目前，5nm工艺已经成熟量产，台积电、三星还在研发3nm工艺。前段时间，三星还全球首发了一款3nm存储芯片。 近日，芯片行业又迎来了两大重要突破。那么，究竟哪个意义更大呢？

这两天，老牌 科技 巨头IBM公司发布了全球首个2nm芯片的消息突然传来，一下成为了热议话题。不过令人纳闷的是，我们听到最多的， 芯片制造方面全球领先的不是台积电和三星吗，怎么突然是IBM发布了全球首个2nm芯片工艺技术？

IBM是全球最大的信息技术和业务解决方案公司，我国华为曾在1998年与IBM达成了为期10年、学费高达40亿元人民币的咨询项目，因此受益匪浅。 IBM还曾是一家主要的芯片制造商， 但在 2014年退出代工业务，将其晶圆厂出售给格芯。

IBM在半导体发展过程中也曾推出多项突破性技术，目前还保留着一个芯片制造研究中心。 这次宣布的2nm芯片制造技术就是这个研究中心，据说可以容纳500亿个晶体管， 相比于7nm芯片， 预计将提升45%的性能、降低75%的能耗。

然而，我们必须明确一个事实，研发出来了并不代表能够量产。从制造工艺上看，IBM实现了跨越到2nm的进步，但其已没有芯片制造能力 ，现已将其大量芯片生产外包给三星电子，并且现在台积电和三星都还在研发3nm工艺芯片制造技术。

上边说的2nm芯片消息是国外的公司，国内芯片行业也传来了重大好消息。 我国的中微半导体公司成功 3nm 刻蚀机，并且 原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估 均已经完成，更值得一提的是， 3nm 刻蚀机 已经进入到量产阶段。

中微半导体是由归国博士尹志尧带领团队创办的，他可是也不得的人物，曾获得过400 多项各国专利，被评价为“硅谷最有成就的华人之一”。 中微研发的刻蚀机已经处于全球领先水平， 之前的5nm 刻蚀机就已经应用到台积电产线。

这次中微突 破了3nm刻蚀机，再次证明了中国企业的技术实力。中微的很多刻蚀设备已经国际一线的芯片制造生产线及先进封装生产线上应用， 这次的3nm刻蚀机能够应用到更先进的高端芯片制造产业链中，将进一步提高我国的芯片话语权。

IBM发布了2nm芯片制造技术，中微突破了3nm芯片刻蚀机，这两个都是芯片行业的重大技术突破，都将促进芯片行业的未来发展，那么哪个意义更大呢？

首先，从全球的角度来分析。IBM这个2nm只是突破了芯片制造技术，并不能实现量产，还是需要依赖代工厂。 而IBM 与三星和英特尔签署了联合技术开发协议，可以授权使用其芯片制造技术，英特尔7nm还没突破，要代工最大可能是三星。

现在三星还在进行 3nm技术攻坚，即 使联合IBM，实现2nm量产也需要几年时间。看似现在领先于台积电，但台积电 也一直在研发，谁能先量产还不一定，因此IBM的2nm意义并不十分重大。 而中微的3nm刻蚀机已可以量产，等台积电、三星3nm制造技术突破，就可以直接应用到产线，相比之下中微的突破意义更大些！

其次，从国内的角度来分析。 IBM的 2nm芯片制造技术对我们更没有意义，现在我国最先进的中芯国际还在进行7nm量产攻坚阶段。 而中微半导体作为中国企业，率先突破的3nm刻蚀机能够跻身国际一线，大大提高了我国在芯片行业的地位！

中微半导体的技术全球领先，再次证明中国人是有实力突破芯片相关技术的，随着发展中国必将出现更多的中微类芯片先进企业，到那时中国芯必将摆脱国外限制，针对华为的“芯片禁令”将会毫无竟义，中国芯片产业将会腾飞！

60岁博士尹志尧弃美回国，破冰芯片关键技术，打破美方技术垄断

中微半导体可以说是我国芯片领域传奇般的存在 ， 面对美国甩出的三把制裁利刃，中微都能险之又险的躲过，并凭借自身过硬的技术实力研发出了等离子刻蚀机 ， 让美国都束手无策，美商业部更是将该技术从国家安全出口管制名单中剔除。 组建中微半导体公司的是有着国产设备界教父之称的尹志尧 ， 同时，他也是中国突破芯片技术垄断的第一人，究竟尹志尧和他的中微半导体在国内的分量有多重？他又是如何带领中微半导体从美国的三次专利大刀之下奇迹般脱身的呢？ 中微半导体要做就做世界第一，做中国第一也会被别人替代 ， 这句话出自尹志尧的口中，这位半导体领域的既懂技术又懂得经营的大神 ， 已经专注等离子设备研发二十年之久，个人拥有的专利数多达六十多项 ， 原本他能很好的在美国做一个应用材料公司的副总裁 ， 只因他当年说出的一句誓言，决定只为他日归来，报效祖国。 早年，尹志尧出生在北京城内，大学毕业后 ， 在甘肃兰州炼油厂工作了近十年 ， 1978 年，他考入了北京大学化学系硕士 ， 在那他幸运的见到了一台内存只有一百二十 八 k 的国内最先进计算机，光是电子管做到占据了两栋大楼 ， 那场面着实震撼到了尹志尧。 在那时，他的心中就涌现出中国的电脑，要拥有更多内存运行更快的芯片的想法 ， 1980 年间，尹志尧父亲鼓励他去国外进修，于是尹志尧踏上了美国的 旅途， 在加利福尼亚大学洛杉矶分校攻读了博士，然后他就在硅谷内打拼 ，和快就得到了科林公司的赏识。 到科林工作后 ， 尹志尧用短短数年的时间，就开发出一系列成功的产品，一举帮助科林斩获全球百分之四十的市场 ， 这时新的挑战摆到尹志尧的面前，昔日霸主美国应用材料公司向尹志尧 抛 来橄榄枝 ， 希望能借助尹志尧让公司扭亏为盈。 1991 年，他到全球最大的半导体设备公司 ， 美国应用材料公司担任副总裁 ， 在这里，他参与了刻蚀机的研发工作 ， 仅仅几年的时间，尹志尧和他的伙伴们就研发出新的产品，一经问世，迅速占领全球百分之五十的市场份额 ， 这才是全市实际上到哪里都会发光的最佳案例。 2004 年，六十岁的尹志尧再次开启新的人生挑战，他放弃美国的百万年薪，带领三十人的创业团队返回中国 ， 回到国内后，尹志尧及其带回来的人共同创办了中微半导体设备公司 ， 不到三年的时间就做出了第一台国产的等离子体刻蚀机，并且采用了业内首创的双反应台，效率比国外同类型产品高出百分之三十。 很多人可能不清楚什么是等离子刻蚀机 是什么， 其实它也是芯片制造过程中最为关键的一步 ， 芯片制造不是说有了光刻机，所有问题就都能解决了 ， 芯片制造需要经过非常复杂的上百道工序 ， 只有光刻机是无法生产 的。 不过在美国应用材料公司的眼中 ， 不管你制作多么艰难，他都理所当然的认为尹志尧偷了他们的技术，进而对 中微 半导 体 提起了诉讼 ， 花费两年半的时间，彻查成为六百多万件文件和三十多人的电脑都没有找到关于美国应用材料的图纸、技术等数据。 西方国家的技术封锁只在短时间内有效 ， 长远来看，只会搬起石头砸自己的脚 ， 而技术上只有完全实现国产化，才能有足够的底气和这些西方无赖摆摆手腕， 中微在连续的官司内 名声大噪 ， 再加上设备质量过硬，不到十八个月的时间，就占据了国内百分之七十的市场份额，彻底改头换面了。 这绝对是国产半导体领域 ， 取得了一次不可思议的胜仗。前不久，中微半导体更是推出了国产五纳米 蚀刻机 ，并获得台积电的认可 ， 国产芯片的突破相信就在不远的前方了 ，虽然 说中微的五纳米克时机并不等于能做五纳米光刻机，但是它的出现意味着中国半导体领域向前跨越了意义重大的一步 ，是中国芯片崛起的必经之路。